CMP拋光液
一、應(yīng)用領(lǐng)域
硅片、硬盤基片、二氧化硅、藍(lán)寶石、精密光學(xué)器件等的拋光。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
1.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機(jī)械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質(zhì)量的拋光精度。
2.納米顆粒硬度適中,既可獲得高拋光速率,又能減少表面劃傷。
3.粒度可控,可根據(jù)客戶需要,定制不同粒度的產(chǎn)品(10-150 nm)。
三、性能指標(biāo)
型號及標(biāo)準(zhǔn):CMP20、 CMP30、CMP50、CMP100
粒徑大小(nm):10-30、 20-40、40-70、90-120
SiO2含量:30±1%
pH值:10-12
外觀:透明至乳白液體
保質(zhì)期(月):≥12
四、使用方法
1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。
2.稀釋后,粗拋時(shí)調(diào)節(jié)pH至11左右,精拋時(shí)調(diào)節(jié)pH至9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分?jǐn)嚢柘侣尤搿?
3.循環(huán)拋光可以用原液。
五、包裝及儲存
1.采用聚乙烯塑料桶包裝,主要包裝規(guī)格有30Kg、250Kg。
2.貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬,貯存溫度為0-40℃。
3.避免敞口長期與空氣接觸。
山東百特新材料有限
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